Способ согласования высокочастотного источника плазмы с источником питания
(регистрации заявки на изобретение № 2023124666)
выходное сопротивление ВЧ источника колебательный контур ВЧ источник питания инжекторы атомарных пучков плазма
Изобретение относится к области плазменной техники, в частности, к мощным плазменным высокочастотным ионным источникам и может использоваться в инжекторах атомарных пучков. Техническим результатом предлагаемого изобретения является эффективная передача ВЧ мощности в плазму. Поставленная задача реализуется согласованием ВЧ источника питания с нагрузкой, которая представляет собой антенный контур. ВЧ источник питания подключают к антенному контуру, который разделен на две или три части. При этом антенный контур индуктивно связан с плазменной нагрузкой. При таком способе подключения индуктивность между точками подключения и полная индуктивность колебательного контура имеют такое отношение, чтобы активное сопротивление колебательного контура совпадало с выходным сопротивлением ВЧ источника.
Использование в инжекторах атомарных пучков.
Игорь
Шиховцев
Владимирович
снс
Кандидат физико-математических наук
Отсутствует
A-8985-2014
6506074230
172026
нет
РОССИЯ
Алексей
Резниченко
Викторович
Ученый секретарь
РОССИЯ
29.27.23
Пучки в плазме
01.03.UF
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
Даниил
Гаврисенко
Юрьевич
РОССИЯ
Алексей
Кондаков
Анатольевич
РОССИЯ
Олег
Сотников
Захарович
РОССИЯ
Игорь
Шиховцев
Владимирович
РОССИЯ
МИНОБРНАУКИ РОССИИ
МИНИСТЕРСТВО НАУКИ И ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
1187746579690
Петр
Мордовской
Григорьевич
Организация
Министерство науки и высшего образования Российской Федерации
Федеральные государственные казенные учреждения
ИЯФ СО РАН
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера Сибирского отделения Российской академии наук
1025403658136
Организация
Министерство науки и высшего образования Российской Федерации
Федеральные государственные бюджетные учреждения