Устройство для травления полупроводниковых структур
травление полупроводниковых структур, селективность технологического процесса
Задача изобретения заключается в создании устройства для травления полупроводниковых структур в высокоплотной плазме индукционно связанного разряда. Технический результат изобретения заключается в повышении степени ионизации компонентов газовой смеси за счет вихревого движения по спирали потоков газа внутри колпака. При этом уменьшается расход газа и обеспечиваются условия работы при более низком рабочем давлении, что обеспечивает улучшение анизотропии травления канавок.
Изобретение относится к оборудованию для производства интегральных схем микромеханических и оптоэлектронных устройств.
Одиноков В.В.
Заместитель генерального директора по науке
Доктор технических наук
Бирюков М. Г.
Генеральный директор
47.13.19
Прочие технологические процессы и оборудование в производстве радиоэлектронной аппаратуры
47.13.11
Технология и оборудование для производства полупроводниковых приборов и приборов микроэлектроники
02.02.00
Electrical eng, electronic eng
02.11.00
Other engineering and technologies
Георгий
Мезенцев
Алексеевич
Разработка технических решений
Михаил
Бирюков
Георгиевич
Разработка технических решений
Георгий
Павлов
Яковлевич
Разработка технологических решений
Александр
Шубников
Валерьевич
Разработка конструкции элементов устройства
Вадим
Одиноков
Васильевич
Разработка технических решений
Владимир
Немировский
Эдуардович
Разработка технологических решений
Владимир
Долгополов
Миронович
Разработка конструкции элементов устройства
Павел
Иракин
Александрович
Разработка конструкции элементов устройства
АО НИИТМ
Акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения"
1027700037749
Организация
Приватизированные предприятия
Непубличные акционерные общества
АО НИИТМ
Акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения"
1027700037749
Организация
Приватизированные предприятия
Непубличные акционерные общества