Способ моделирования процесса очистки поверхности и устройство для его реализации (2020118986)
Очистка поверхности, ультразвуковое воздействие, механическое воздействие
Группа изобретений относится к системам очистки различных изделий от поверхностных загрязнений, возникающих в процессе производства и эксплуатации. Способ очистки основан на ультразвуковом воздействии на очищаемую поверхность, погруженную в очистную ванну с технической жидкостью при дополнительном механическом воздействии.
Изобретение может быть использовано при очистке различных изделий от поверхностных загрязнений на основе механического и ультразвукового воздействий, например, при очистке внутренних поверхностей баков ракет-носителей при их производстве на заводах-изготовителях. Изобретения могут быть применены для моделирования процессов очистки с целью выбора оптимальных режимов и воздействующих факторов.
Жариков К.И.
Ст.науч.сотрудник
Кандидат технических наук
Женатов Б.Д.
Проректор по научной работе
55.49.13
Технология изготовления ракетно-космических систем
55.49.07
Проектирование ракетно-космических систем
02.03.AI
ENGINEERING, AEROSPACE
В.
Трушляков
И.
разработка способа и устройства
И.
Лесняк
Ю.
разработка способа и устройства
А.
Новиков
А.
разработка способа и устройства
МИНОБРНАУКИ РОССИИ
МИНИСТЕРСТВО НАУКИ И ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
1187746579690
Организация
Министерство науки и высшего образования Российской Федерации
Федеральные государственные казенные учреждения
ФГБОУ ВО "Омский государственный технический университет", ОмГТУ
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего  образования "Омский государственный технический университет"
1025500531550
Организация
Министерство науки и высшего образования Российской Федерации
Федеральные государственные бюджетные учреждения