Технология изготовления структур с размером минимального конструкционного элемента 350 нм
проекционная система для производства СБИС фотолитографический объектив топологическая норма 350 нм Step&Repeat
Разработан базовый технологический процесс (БТП) фотолитографии в обеспечение производства СБИС с проектными нормами 350 нм на базе созданной установки. Для его исследования и отработки разработана библиотека тестовых структур, обеспечивающих контроль основных параметров процесса фотолитографии, таких как разрешающая способность и погрешность совмещения. Оптимизирован ряд параметров установки (числовая апертура, режимы освещения), чтобы добиться оптимальной широты окна процесса (широта экспозиции/глубина резкости). В результате исследования и отработки БТП подобран режим обработки пластин в парах ГМДС, необходимый вид фоторезиста, режимы нанесения фоторезиста, и определены технологические параметры экспонирования.
обеспечение производства ИС, ЭКБ с проектными нормами 350нм
47.13.13
Технология и оборудование для производства радиодеталей и компонентов
Ростислав
Величко
Валерьевич
"Кандидат технических наук"
"Отсутствует"
РОССИЯ
Алия
Бекенова
Талгаткызы
"Отсутствует"
"Отсутствует"
КАЗАХСТАН
Дмитрий
Калбазов
Наумович
"Отсутствует"
"Отсутствует"
РОССИЯ
МИНПРОМТОРГ РОССИИ
МИНИСТЕРСТВО ПРОМЫШЛЕННОСТИ И ТОРГОВЛИ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
1047796323123
ДЕНИС
МАНТУРОВ
ВАЛЕНТИНОВИЧ
Организация
Министерство промышленности и торговли Российской Федерации
Федеральные государственные казенные учреждения
АО "ЗНТЦ"
Акционерное общество "Зеленоградский нанотехнологический центр"
1107746582052
Организация
Организации, учрежденные юридическими лицами или гражданами, или юридическими лицами и гражданами совместно
Непубличные акционерные общества