Технологический процесс изготовления сложных бинарных фотошаблонов с элементами компенсации оптической близости для производства ИС с проектными нормами 130 нм.
Проектирование ИС проектные нормы 130 нм Фотошаблон
Разработаны технологические процессы проектирования дизайна, изготовления, аттестации сложных бинарных фотошаблонов с элементами ОРС и для производства ИС с проектными нормами 130 нм с применением техники повышения разрешения RET.
Изготовленные по разработанной технологии сложные бинарные фотошаблоны могут быть использованы российскими предприятиями - изготовителями интегральных схем и ЭКБ для проведения литографических процессов формирования изображения топологического рисунка критических слоёв ИС с проектными нормами 130нм на полупроводниковых пластинах
Александр
Беленков
Николаевич
Главный конструктор ОКР
Отсутствует
Отсутствует
___________
____________
РОССИЯ
Сергей
Портнов
Михайлович
Генеральный директор
РОССИЯ
47.13.11
Технология и оборудование для производства полупроводниковых приборов и приборов микроэлектроники
02.10.NS
NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
Валентина
Солодахина
Александровна
РОССИЯ
Александр
Беленков
Николаевич
РОССИЯ
Вячеслав
Овчинников
Алексеевич
РОССИЯ
Дмитрий
Базанов
Владимирович
РОССИЯ
Сергей
Морозов
Игоревич
РОССИЯ
Дмитрий
Арефьев
Леонидович
РОССИЯ
МИНПРОМТОРГ РОССИИ
МИНИСТЕРСТВО ПРОМЫШЛЕННОСТИ И ТОРГОВЛИ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
1047796323123
ДЕНИС
МАНТУРОВ
ВАЛЕНТИНОВИЧ
Организация
Министерство промышленности и торговли Российской Федерации
Федеральные государственные казенные учреждения
АО "ЗИТЦ"
АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО "ЗЕЛЕНОГРАДСКИЙ ИННОВАЦИОННО-ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЙ ЦЕНТР"
1027739612010
СЕРГЕЙ
ПОРТНОВ
МИХАЙЛОВИЧ
Организация
Организации, учрежденные юридическими лицами или гражданами, или юридическими лицами и гражданами совместно
Публичные акционерные общества